CCZK-SF磁控濺射鍍膜設備
特征描述：
馳誠CCZK-SF磁控濺射鍍膜機，具備成膜速率高，基片溫度低，膜的粘附性好，可實現大面積鍍膜相對于傳統蒸發鍍膜設備，馳誠磁控濺射鍍膜可獲得更為優秀的膜層致密性，均勻性和結合力采用全新的直流或中頻磁控濺射電源，滿足不同層次客戶需求
全新的高速低溫濺射技術，極大的擴展了馳誠CCZK-SF磁控設備的應用范圍，對無法受熱或耐熱力產品提供優質的濺射鍍膜解決方案采用馳誠創新工藝制造，精益求精，全面通過歐盟CE和ISO質量管理體系認證；
技術配置
CCZK-SF磁控濺射鍍膜設備
腔體結構： 立式前開門，臥式前開門。
材質用料：腔體材質為SUS304不銹鋼或碳鋼
真空系統： 擴散泵（可選分子泵）+羅茨泵+機械泵+維持泵（另有深冷泵系統可供選擇）
濺射靶材： 中心圓柱靶，平面靶，孿生靶等
磁控電源： 可配備直流或中頻磁控濺射電源
轉動系統： 變頻調速，公自轉結合，可根據客戶產品和要求設計
膜層結構： 單層膜、多層膜
氣體控制： 氣體流量控制儀集成觸控操作控制
人機界面： PLC智能控制+全彩HMI觸摸屏
操作方式： 邏輯全自動方式、半自動方式、手動方式
智能控制： PLC智能控制+HMI全彩人機觸控界面，實現全自動控制
報警及保護：異常情況進行報警，并執行相應保護措施。
其他技術參數：
極限真空： 5.0×10-4Pa
抽氣速率： 5.0*10-2≤5min
水壓流速≥0.2Mpa 3m3/h；水溫≤25℃；氣壓：0.4-0.8Mpa；
備注：
一般規格：
Φ1000mm*H1200mm，Φ1400mm*H1600mm,Φ1200mm*H1500mm，
Φ1800mm*H2000mm, Φ2000mm*H2200mm
真空室尺寸或設備配置可按客戶產品及特殊工藝要求訂做
應用
適合鍍制高級裝飾膜，合金膜層等。全新的高速反應低溫濺射技術，成就了其高速的薄膜生長能力和優秀的膜層均勻度致密性，廣泛應用于塑料餐具，手機外殼、衛浴潔具、汽車輪轂，五金飾品及標牌等鍍膜。亦可濺射塑料制品、陶瓷、馬賽克、樹脂、水晶玻璃制品等
樣品圖
