真空鍍膜機廠家真空鍍膜設備真空模板
真空鍍膜機廠家真空鍍膜設備真空模板利用電子束加熱使真空鍍膜膜材汽化蒸發后，凝結在基片表面真空鍍膜呈膜使真空鍍膜蒸發鍍膜技術中一種重要的加熱方法。
這種真空鍍膜裝置很多。隨著真空鍍膜薄膜技術的應用，不但對真空鍍膜膜層的種類要求繁多，而且對真空鍍膜膜層的質量要求更加嚴格。真空鍍膜電阻蒸發鍍已不能滿足真空鍍膜蒸鍍某些金屬和非金屬的需要。真空鍍膜電子束熱源能獲得遠比真空鍍膜電阻熱源更大的能量密度，數值可達(104—109)W/cm2，因此可以將真空鍍膜膜材加熱到3000—60000C。
這就為真空鍍膜蒸發難熔金屬和非金屬材料如鎢，鉬，鍺，SiO2,Ai2O3等提供了較好的熱源。而且由于真空鍍膜被蒸鍍的材料是放在水冷坩堝內，因此可避免容器材料的蒸發及容器材料與真空鍍膜膜材之間的反應，這對提高真空鍍膜的膜的純度是極為重要的。
另外，熱量可直接加到真空鍍膜的膜材表面上，因此熱效率高，熱傳導和熱輻射損失少。
一、電子束蒸發鍍膜機
真空鍍膜機具有石英晶體膜厚自動控制及光學膜厚自動控制兩種方式,通過PLC和工控機聯合實現對整個鍍膜過程的全程自動控制,包括真空系統,烘烤系統,蒸發過程和膜層厚度的監控功能,可實現無人值守的自動控制,從而提高了工作效率和保證產品質量的一致性和穩定性.
應用范圍：主要用于光學膜及電學膜領域,適用于塑料,陶瓷玻璃晶體等,基體的鍍膜,如:紅外膜,寬帶增透膜,透明導電膜,干涉截止濾光片偏振膜,金屬化合物膜,VCD分光膜,各類激光膜。
基本參數：
極限真空：3×10-4Pa
恢復真空時間：大氣至4×10-3Pa≤15min
采用KT-630型擴散泵（22000L/s）兩臺(帶移相溫度控制)，HGL－150型滑閥泵一臺+ZJP-600羅茨泵一臺，維持泵2X－30型機械泵（30L/s）一臺；配備防湍流裝置
真空程序有自動和手動兩種模式。日本歐姆龍型PLC控制所有泵閥動作；高閥、低閥、預閥，到位信號送入PLC控制信號；PLC程序帶故障報警功能，如氣壓、水流、機械泵等保護及報警；
工件轉動：采用磁流體密封轉動裝置
工件烘烤：桶狀上烘烤,三點控溫,加熱器采用管狀加熱器，配溫控儀
E型電子槍兩支，槍功率10KW/支；束偏轉角270°；陽極電壓為-4KV～-10KV連續可調，穩壓精度：±0.5%；束流：0－1000mA可調；具有X、Y方向掃描，掃描波形有三角波、正弦波、矩形波可選擇，并能存儲每一位坩堝的掃描參數。電子槍主體有屏蔽罩，電子槍輸出功率穩定。
配備美國Inficon的MDC360C型或SQC310石英晶體膜厚儀。
12英寸的觸摸屏，可編程控制器（PLC）中央控制方式及其相關電氣控制單元對設 備真空系統、蒸發源系統、烘烤系統、工件轉動系統、膜厚監控系統等進行監測和控制，并能把石英晶控的功能在觸摸屏上進行操作
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