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真空鍍膜和光學(xué)鍍膜的區(qū)別

作者:  來(lái)源:  更新時(shí)間:2018-9-19  點(diǎn)擊次數(shù):
單單從膜厚儀測(cè)試來(lái)說(shuō)的話,真空鍍膜和光學(xué)鍍膜有以下區(qū)別:

1、真空鍍膜:一般TiN,CrN,TiC,ZrN,電鍍出來(lái)的厚度大概是3~5微米。一般情況真空鍍膜的厚度是在設(shè)備上測(cè)試不出來(lái)了;

2、光學(xué)鍍膜的膜厚測(cè)試可以在鍍膜機(jī)的中間頂上裝置膜厚測(cè)試儀即可。

最早的是光控測(cè)試,現(xiàn)在一般用晶控(晶振片)使用的是晶振片震動(dòng)的頻率來(lái)測(cè)試鍍膜的厚度。不同膜層的厚度不同。
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