真空鍍膜工藝問題匯總
1.Al2O3打底已增加粘貼性，怎樣鍍Al2O3濺射鍍怎么鍍？請問旋轉靶磁場加在哪里？
2.一.多弧離子鍍做TiAIN膜1.靶材，材質？尺寸？2.偏壓，—脈沖，直流對膜有無影響？二.高建鋼材質刀具，1.立銑刀的鋒利與鍍膜前的酸洗工藝存在矛盾。三.多弧爐中結合了磁控柱靶在TiAIN膜制作過程中，可采用或利用其磁控靶的優點進行，四.用高偏壓加氫氣的輝光放電，是否用對硬膜的形成不利，會影響其硬度嗎？是否用離子轟由（加熱）來取代此工藝嗎？五.靶材中Ti的純度，對膜質（硬度，外觀，粗糙毒等）有無關系？Ti是否對工具鍍膜來說是否足夠？六.《真空》雜志中有文章介紹，多弧離子鍍中用部分鉻靶使TiN膜層中含有鉻成分，有助于提高膜的硬度和外觀的光亮度等那么能否采用鈦鉻合金靶，達到其效果？七.TiAl拔能否使其合金化，是否合金化后，在蒸發靶材時，清除或減少熔滴的產生？使其多弧離子鍍，并產出的TiAIN膜質光亮，致密。
3.相對來說磁控濺射技術比較深奧些，聽的不是太懂之前中設接觸過磁控技術書面知識比較理論看不透徹，因為專業知識有限喜歡聽籠統一點通俗易懂的。
4.1.如何防止靶的電弧放電問題
2.Si靶Ti靶的氧氣是否一定要用壓電閥來控制嗎？3.做高反射鉗時Si靶Ti靶的氬氣，氧氣的比例是多少？4.靶的電弧放電與亮孔是否有聯系？5.在同樣的工藝條件下，為什么有些會出現膜脫落，有時會出現SiTi膜脫落。
5.鍍鋁制鏡，基片兩頭打弧，為什么？怎么解決？鍍過鋁后如何保護？
6.1.由于重復使用的玻璃進行了多次鍍膜以后在玻璃表面殘存物沉積且由于多次清洗造成玻璃表面劃痕增加，最終造成散射光增加反射率降低，如何在不拋光的情況下，改善（提高）反射率？在鍍膜工藝上有何可行性的解決方案等！為了增加鉛膜和玻璃的粘合度，一般采用什么方法？如果鍍一層介質膜，可采用什么材料，不影響反射率？
7.目前國內的膜厚控制技術均多采用國外進口請問國內外的差距在什么地方，如何攻克?TiO2在40WA時的反射鋁會下降如果我們鍍Al需要照顧到紅外和紫外線有什么方法使得反射率增高，S2O2好象只能作為保護膜用本身并不能提高反射率。
8.汽車的熱弓鋼化Low-E怎樣解決膜裂的問題？
9.TiO2的沉積溫度？350℃或可在更低溫度下執行，最低溫度多少？達到高反射率.TiO2的膜層厚度要多少？
10.請介紹一下應用于手機外殼（塑料基材）上的不導電真空鍍的成膜原理。如何控制生產過程中同一種產品之間的色差和不導電性差異。
請介紹一下金屬膜層與塑膠基材之間提高結合力的介質及附差原理。
11為什么控制氧氣流量可以防止靶中毒
大面積膜設備中靶樣間距，靶的設置密度如何確定？孿生靶斜放更穩定，其放置方向角度如何？孿生靶設計兩靶間距如何確定？ITO膜中靶材利用，提高靶材利用率移動靶面磁場，如何移動？
12.中頻孿生靶對靶間距有沒有要求，最佳距離是多少？如何確定？中頻孿生靶之間有角度放置，放置的角度是否無限加大對靶放置？ITO透明電玻璃鍍刷時對溫度要求大于350℃溫度高低對膜的均勻性影響有多大，基本的受熱均勻性是否也對膜質有影響，該如何解決？鍍大型基片時出現結射現象在不浪費材料時該如何解決為好？所說的陽極消失是否是指基片被不導電膜附著而消失？
13.在鍍汽車風擋玻璃及LOW-E膜時并沒有講到鍍膜的抗拉伸效果在彎曲的過程中，膜層不會產生變化么？有什么方式來檢測？我從老沒接觸過ITO的行業，很想知道ITO靶材的具體成分的構成，以及他的合格指標。
14.真空不導電的檢測，真空不導電鍍膜最好的方法，不導電鍍膜帶用哪些金屬？哪種最穩定最好？磁控濺射顏色不穩定如何解決？鍍膜層發黃的原因有哪些？真空度對鍍膜品質有哪些影響？到何種程度為最低？鍍膜層厚度如何控制，測量厚度與外觀物性有何關系？能否邀請高工教授來廠家徹底培訓？需多少費用？
15.氫質譜檢漏儀在真空鍍膜中有哪些是何應用？如：什么地方需要檢漏？大概漏率是多少？
16.我司在用電頻交流電源后生產TiO2時發現其濺射率僅于DC反應濺射相當，其原因是什么？有沒有可鋼代雙銀LW后在市場上出現？有沒有實現可能？
17.如何消除或減少有磁控濺射方法獲得的鋁合金膜層的脆性？在磁控濺射過程中伴隨開一定的基片負偏壓與所謂的磁控濺射離子鍍有何區別？因為有此專箸上將前者視為偏壓濺射而大連理工大學的一篇專利的名稱為后者。
18.孿生靶中兩個靶距離對鍍膜影響？孿生靶的靶基距？汽車玻璃中PVB是熱壓上作粘合用？.
19.LOW-E玻功的典型膜系。玻功——SnO2(ZnO)-Ag-NiCrOx-SnO2鍍銀后在鍍保護層NiCrOx時是否用氧氣參與生成反應膜層？如有是怎樣避免銀的不膜層15氧仕，真空鍍膜車間環境對鍍膜質量的影響？如濕度，溫度潔凈度等一般控制多少合適于鍍膜純金屬膜產生的儲存？
20..多弧離子鍍與磁控濺射幾蒸發鍍之間的區別？
21.我公司生產高反射鏡，，膜系為Al---Si—TiO2目前使用脈沖濺射做SiO2和TiO2電源使用AE電源，但脈沖濺射率最大為20KHz，請問這個頻率是否太小了？
我們在鍍AL過程中，為改善膜層粘貼性，對AL靶充入少量O2請問這樣是否會引起電弧放電。注：O2和A2流量比約為2%
22.靶材的用率？引進方法措施？圓柱靶伏缺點？
23.在反應濺射過程中濺射速率與氧氣流量之間的遲回線關系，對于每一種具體的工藝（靶材與反映氣體種類）是否相對固是不變的？如果是則可否編制數據庫，合理控制反應氣體流量底上限，以人采證盡量大的流量而又不至于“靶中毒”------建立“靶中毒”的預防系統。
24.塑膠產品CPC或ABS材料表面裝飾性鍍膜采用蒸發鍍還是磁控濺射更好？
25.1000A的電流可使鎢絲產生多少溫度？
電阻鎢絲投入多少是否取決于投入的產品多少是怎樣的匹配
蒸發鍍材后鍍材的分布是怎樣的？
26.蒸發鍍膜時，鍍材的粒子有沒有運行規則
外界溫度對鍍膜前后2件性能或外觀的影響？
27.有沒有一些資料，用什么資料（六素）搭配鍍出一些比較花樣的顏色。有透明的也有不透明的（我們土話叫礦金，礦銀，礦灰古銅等是不是真空蒸發鍍也能鍍得出來（配電子槍）鍍玻璃上。
28.鍍膜材料進行去氣如何進行？需注意哪些問題？
鍍膜過程中產生的X射線如何預防？
29.用什么樣的方法來清洗真空室內壁？
30.磁控濺射和蒸發鍍，哪一種工藝使玻璃表面針孔更少，針孔的多少和C2靶材有什么關系？還和哪幾種因素有關？
蒸發鍍膜的玻璃效率還是磁控濺射效率高
我們98年用過貴公司鍍膜機（平面磁控濺射臥式12米長，先發現效率低已滿足不了我們需求，請問我們需要在添一臺設備，需再添一臺什么樣的設備（我們主要做汽車反光鏡
磁控濺射鍍膜用循環水電阻率是多少，有什么具體要求？
鉻和氫化鉻在玻璃上面的反射率最高能達到多少？
31.如何控制加熱器的加熱均溫區有什么好的方法，移動基片的測溫方法？
對卷繞鍍膜中的跑偏和褶皺現象該如何解決？卷繞中的平靶是否是附帶旋轉的？
32.真空不導電膜層電性能的檢測方法，
真空不導電常用哪些金屬？哪幾種最穩定？
產品進行鹽霧實驗時（附著力差）為什么會這樣？
33.對于升華的膜材如S2O2 ZnS,在蒸發前去氣應以多長時間為宜，在蒸發深度去氣時？
如果提高膜材蒸發溫度，提高蒸發速度是可以提高生產速度的，但對成膜質量有何影響？
34.真空蒸鍍膜層不太均勻可通過加何種修正裝置改善？原理為何？
蒸發強如何進行對膜材的去氣？
精確控制蒸發溫度的方法為何？
加熱電阻如螺旋鎢絲上殘留的鍍材如錫，對產品上鍍層的均勻性的影響如何？
加離子源的主要作用是什么？原來的設備上沒有離子源可增加嗎？是否還要同時配電子槍？
請介紹一下組分蒸發指什么？
35.DC磁控濺射能否與多弧相結合，深鍍硬膜？或能否在DC磁控濺射的基礎上改進后加以利用？
鍍膜前的處理對水質有無嚴格的要求？.酸洗過程是否對所刀具都必要？
高壓輝光清洗是否越高越好？
36.膜層的色差問題怎樣解決？
玻璃反射率和透過率標準是多少？
在生產汽車后視鏡時，充O2需要中頻電源嗎？
腔體內針孔問題更樣解決，DC磁控濺射，生產汽車后視鏡.
羅茨泵旁邊閥一旦打不開怎么辦,能不能失去作用?
在羅茨泵前真空泵是要比羅茨泵高,還是要低,還是平衡,三者之間關系有影響嗎?
擴散泵與加熱器的關系？
37.多弧離子鍍的膜層不均勻,有色差,跟離子濺射無關嗎?那么是否與偏壓有關?
38.反應膜在做各種顏色方面有什么好的方法?
在鍍基材時有什么要求?如鎂合金，鋅合金 等可以嗎?
在做高反射膜時為什么會有霧斑?在做ITO導電玻璃時也經常有這種現象?
39.靶與產品的距離怎樣確定運近有什么距離?
濺鍍汰時,為什么會出現裂紋將如何解決?
40.影響到鍍摸附著力的因素
鍍材設備與被鍍物件之間的相互和影響
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