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真空鍍膜機(jī),真空鍍膜機(jī)廠家鍍膜技術(shù)應(yīng)用簡介

作者:溫州馳誠真空機(jī)械有限公司  來源:http://www.ryanairline.com  更新時(shí)間:2015-7-31 15:41:38  點(diǎn)擊次數(shù):

真空鍍膜機(jī),真空鍍膜機(jī)廠家鍍膜技術(shù)應(yīng)用簡介

最常見的濕法鍍膜淀積工藝是我們見到的玻璃鍍銀制鏡,在今天的某些地方還在使用。常見的濕法式模式是利用化學(xué)制劑在被鍍物品上產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng),反應(yīng)的產(chǎn)生物附著在被鍍物品的表面,并結(jié)合在一起形成了一層鍍膜。
    濕法鍍膜的工作要素有:
    1. 用以參加化學(xué)反應(yīng)的化學(xué)制劑
    2. 化學(xué)反應(yīng)池
    3. 輔助添加劑
    4. 催化劑
    5. 反應(yīng)電極
    我們可以看出由于在化學(xué)反應(yīng)方法制備鍍膜時(shí),人們無法精確控制化學(xué)反應(yīng)池中每一小區(qū)域的反應(yīng)情況,所以在很大程度上人們無法在生產(chǎn)過程中精密的控制膜層的均勻厚度。在相當(dāng)多的情況下被鍍物品不答應(yīng)參加化學(xué)反應(yīng)。例如在制作單項(xiàng)透光玻璃鍍膜時(shí)如玻璃也參與化學(xué)反應(yīng)就有可能玻璃損壞表面,透光性下降,這也就失往了鍍膜意義。最嚴(yán)重的題目是,決大多數(shù)用過的化學(xué)制劑、輔助添加劑、催化劑都是有強(qiáng)污染性的,有些是有劇毒的,他給人類及大自然所帶來的損害是巨大、甚至實(shí)災(zāi)難性的。有些膜系用化學(xué)方法是無法制備的。
    從現(xiàn)代物理學(xué)中我們知道,在真空環(huán)境中,物質(zhì)中的帶電粒子輕易逃離物質(zhì)體本身而成為自由粒子,在一定的溫度與電場的同時(shí)作用下,這種現(xiàn)象更輕易發(fā)生。實(shí)際上電子真空管就是利用這一原理而發(fā)明的。利用上述原理鍍膜的方法就是通常所說的物理制膜法,也稱為干法鍍膜??梢钥闯觯煞ㄥ兡ぶ械墓ぷ饕赜校?/div>
    1. 真空環(huán)境(即真空反應(yīng)室)。
    2. 參與反應(yīng)的電極。
       這就沒有了化學(xué)制劑、輔助添加劑、催化劑這些難以回收處理的制劑。
    物理鍍膜的三種方法
    1.蒸發(fā)鍍膜
       它是將需鍍物質(zhì)用加熱、蒸發(fā)、升華的方法或利用電子往濺射需鍍物質(zhì)的方法而產(chǎn)生蒸汽,蒸汽附著在被鍍膜物體表面形成膜的方法。
    2.濺射鍍膜
       使用高能電子往濺射需鍍的物質(zhì),將需鍍物質(zhì)中的粒子轟擊出來后而附著在被鍍物體上形成膜的方法。
    3.離子鍍膜
       蒸發(fā)鍍膜與濺射鍍膜相結(jié)合就形成了離子鍍膜的方式。
    濺射過程通常是在有氣體放電時(shí)發(fā)生,因而下面將討論對濺射過程很重要的氣體放電情況。
    直放逐電
    最簡單情況是直流電壓氣體放電,根據(jù)下圖所示電流/電壓曲線,可很好地討論一種氣體放電的形成。
一 種直流輝光放電的 成
    在兩極之間加直流電壓,首先產(chǎn)生很小的電流,由于僅有幾個(gè)電離粒子能對電流有貢獻(xiàn),增大電壓使荷電粒子獲得足夠的能量,以便通過碰撞電離產(chǎn)生更多的荷電粒子,這導(dǎo)致放電電流的線性增長,而電壓受電源電壓的高輸出阻抗所現(xiàn)仍為恒量。這個(gè)范圍的放電常稱為“湯森(Townsend)放電”。
    在一定的條件下,能夠發(fā)生一種雪崩過程,離子撞擊陰極,并在那里開釋二次電子,這些二次電子在陰極電場中被加速,由于與殘余氣體原子和分子相碰撞而產(chǎn)生新的離子,這些離子再次向著陰極被加速,又產(chǎn)生新的二次電子。假如產(chǎn)生的電子數(shù)足以產(chǎn)生這樣多的離子,以使這些離子能再一次產(chǎn)生相同數(shù)目的電子,這一條件能達(dá)到的話,則放電是自持放電。
    在這種條件下,氣體開始發(fā)出輝光,電壓忽然下降,電流驟升,這種放電稱為“正常放電”。對大多數(shù)材料來說,每個(gè)進(jìn)射離子所產(chǎn)生的二次電子數(shù)接近0.1,所以要開釋一個(gè)二次電子,必須大約有10至20個(gè)離子撞擊給定表面,被轟擊的陰極表面在這個(gè)范圍內(nèi)適應(yīng)放電現(xiàn)象,這樣放電得以持續(xù),
但這就導(dǎo)致無規(guī)律的轟擊印記。
    進(jìn)一步增加所用功率,可獲得電流強(qiáng)度的一種均勻分布,終極引起電流和電壓上升,這個(gè)范圍被稱為“異常”放電,它適用于陰極濺射。當(dāng)我們將真空裝置中的真空度、電壓維持在一定范圍時(shí)陰極濺射可持續(xù)進(jìn)行下往。
    由于在現(xiàn)代物理中,精確控制真空裝置中電極上的電壓、電場的方向、加電時(shí)間等是非常輕易的,所以在這種環(huán)境中就可以按人們的意愿制作出性能優(yōu)良的膜系。
    但是,從上述中我們看出,在真空裝置電極上所加電壓為直流電,這就產(chǎn)生了以下的題目:
    1. 由于長時(shí)間的工作,在陰極的表面會(huì)出現(xiàn)氧化現(xiàn)象,使陰極不能正常工作。在產(chǎn)生氧化后,陰極可能出現(xiàn)“打火”的現(xiàn)象,這在實(shí)際工作中叫靶中毒(在
       真空鍍膜行業(yè)中將參加反應(yīng)的電極稱作靶),是有害的。
    2. 由于非金屬是不導(dǎo)電的,所以用這種方法無法制備非金屬膜。
在靶上施加直流電壓時(shí)的工作示意圖:
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