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熱門關(guān)鍵詞:真空鍍膜機(jī) 真空鍍膜設(shè)備 真空鍍膜機(jī)廠家

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真空鍍膜機(jī)是干什么的

作者:  來源:www.ryanairline.com  更新時間:2024-11-6  點(diǎn)擊次數(shù):
  “真空鍍膜機(jī)”我們在日常生活、工作中都經(jīng)常用到,但不知道大家對“真空鍍膜機(jī)”是否知道呢?本文收集整理了一些資料,希望本文能對各位讀者有比較大的參考價值。

使用步驟電控柜操作
  1. 開水泵、氣源。
  2. 開總電源。
  3. 開維持泵、真空計(jì)電源,真空計(jì)檔位置V1位置,等待其值小于10后,再進(jìn)入下一步操作。約需5分鐘。
  4. 開機(jī)械泵、予抽,開渦輪分子泵電源、啟動,真空計(jì)開關(guān)換到V2位置,抽到小于2為止,約需20分鐘。
  5. 觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達(dá)250以后,關(guān)予抽,開前機(jī)和高閥繼續(xù)抽真空,抽真空到達(dá)一定程度后才能開右邊的高真空表頭,觀察真空度。真空到達(dá)2×10-3以后才能開電子槍電源。

DEF-6B操作
  1. 總電源。
  2. 同時開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源:按電子槍控制Ⅰ電源、延時開關(guān),延時、電源及保護(hù)燈亮,三分鐘后延時及保護(hù)燈滅,若后門未關(guān)好或水流繼電器有故障,保護(hù)燈會常亮。
  3. 開高壓,高壓會達(dá)到10KV以上,調(diào)節(jié)束流可到200mA左右,簾柵為20V/100mA,燈絲電流1.2A,偏轉(zhuǎn)電流在1~1.7之間擺動。

  關(guān)機(jī)順序
  1. 關(guān)高真空表頭、關(guān)分子泵。
  2. 待分子泵顯示到50時,依次關(guān)高閥、前級、機(jī)械泵,這期間約需40分鐘。
  3. 到50以下時,再關(guān)維持泵。

  適用范圍
  1.建筑五金:衛(wèi)浴五金(如水龍頭).門鎖.門拉手.衛(wèi)浴、門鎖、五金合葉、家具等。
  2.制表業(yè):可用于表殼.表帶的鍍膜、水晶制品。
  3.其它小五金:皮革五金.不銹鋼餐具.眼鏡框、刀具、模具等.
  4.大型工件:汽車輪轂、不銹鋼板.招牌.雕塑等。
  5、不銹鋼管和板(各種類型表面)
  6、家具、燈具、賓館用具。
  7、鎖具、拉手、衛(wèi)浴五金、高爾夫球頭、不銹鋼餐具、器血等五金制品鍍超硬裝飾膜。
  8、手表、表帶、眼鏡、首飾等裝飾品鍍超耐磨裝飾(金銀)納米膜和納米膜和納米疊層膜。

  薄膜均勻性概念
  1.厚度上的均勻性,也可以理解為粗糙度,在光學(xué)薄膜的尺度上看(也就是1/10波長作為單位,約為100A),真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好,可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi),也就是說對于薄膜的光學(xué)特性來說,真空鍍膜沒有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度,也就是說要實(shí)現(xiàn)10A甚至1A的表面平整,具體控制因素下面會根據(jù)不同鍍膜給出詳細(xì)解釋。
  2.化學(xué)組分上的均勻性: 就是說在薄膜中,化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性,SiTiO3薄膜,如果鍍膜過程不科學(xué),那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分,這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。 具體因素也在下面給出。
  3.晶格有序度的均勻性: 這決定了薄膜是單晶,多晶,非晶,是真空鍍膜技術(shù)中的熱點(diǎn)問題,具體見下。

  主要分類
  主要分類有兩個大種類: 蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜,具體則包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,溶膠凝膠法等等 。

  對于蒸發(fā)鍍膜:
  一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。

  厚度均勻性主要取決于:
  1。基片材料與靶材的晶格匹配程度
  2、基片表面溫度
  3. 蒸發(fā)功率,速率
  4. 真空度
  5. 鍍膜時間,厚度大小。

  組分均勻性:
  蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調(diào)控的因素同上,但是由于原理所限,對于非單一組分鍍膜,蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。

  晶向均勻性:
  1。晶格匹配度
  2。 基片溫度
  3。蒸發(fā)速率
  濺射鍍膜又分為很多種,總體看,與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。
  濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld,組分均勻性容易保持,而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因?yàn)槭敲}沖濺射),晶向(外沿)生長的控制也比較一般。

  操作程序
  真空鍍膜機(jī)操作程序具體操作時請參照該設(shè)備說明書
  和設(shè)備上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標(biāo)注說明。
  ① 檢查真空鍍膜機(jī)各操作控制開關(guān)是否在"關(guān)"位置。
  ② 打開總電源開關(guān),設(shè)備送電。
  ③ 低壓閥拉出。開充氣閥,聽不到氣流聲后,啟動升鐘罩閥,鐘罩升起。
  ④ 安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位,保證無任何雜質(zhì)污物。
  ⑤ 落下鐘罩。
  ⑥ 啟動抽真空機(jī)械泵。
  ⑦ 開復(fù)合真空計(jì)電源(復(fù)合真空計(jì)型號:Fzh-1A)。
  a.左旋鈕“1”順時針旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段的加熱位置。
  b.低真空表“2”內(nèi)指針順時針移動,當(dāng)指針移動至110mA時,左旋鈕"1"旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。
  ⑧ 當(dāng)?shù)驼婵毡?ldquo;2”內(nèi)指針再次順時針移動至6.7Pa時,低壓閥推入。這時左旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測量位置。
  ⑨ 真空鍍膜機(jī)開通冷卻水,啟動擴(kuò)散泵,加熱40min。
  ⑩ 低壓閥拉出。重復(fù)一次⑦動作程序:左下旋鈕“1”轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。低真空表“2”內(nèi)指針順時針移動,當(dāng)指針移動至6.7Pa時,開高壓閥(閥桿順時針旋轉(zhuǎn))。
  等低真空表“2”內(nèi)指針右移動至0.1Pa時,開規(guī)管燈絲開關(guān)。
  a. 發(fā)射、零點(diǎn)測量鈕“9”旋轉(zhuǎn)至指向發(fā)射位置。
  b. 左下旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測量位置。
  c. 鋁絲全部熔化蒸發(fā),擋板回原位。
  d. 右手旋轉(zhuǎn)調(diào)壓器手輪回零位。第一次蒸鍍工作完成。
  21. 如果再想蒸鍍一次(為了增加電極金屬層厚度):把電流分插塞撥出插入另一個電極分配孔。重復(fù)?操作動作。
  22. 關(guān)閉規(guī)管燈絲開關(guān)。關(guān)閉高壓閥(逆時針轉(zhuǎn)手柄)。關(guān)閉工件旋轉(zhuǎn)。關(guān)閉蒸發(fā)。旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵鈕至指向擴(kuò)散泵位置。
  23. 低壓閥拉出。鐘罩充氣。充氣一段時間,當(dāng)沒有氣.聲時,升鐘罩。
  24. 鎢螺旋加熱子內(nèi)加鋁絲。PVDF薄膜調(diào)換另一面向下 (原下面已鍍一層鋁膜面向上)。緊固在轉(zhuǎn)動圓盤上。
  25. 落鐘罩。開機(jī)械泵。
  a. 左下旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。
  b. 當(dāng)?shù)蛪赫婵毡?ldquo;2”內(nèi)指針順時針移動到6.7Pa時,低壓閥推入。
  c. 左下旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測量位置。
  d. 當(dāng)?shù)蛪赫婵毡?ldquo;2”內(nèi)指針順時針移動到6.7Pa時,開高壓閥。旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。
  e. 當(dāng)?shù)蛪赫婵毡?ldquo;2”內(nèi)指針順時針移動到指向0.1Pa時,開規(guī)管燈絲。
  f. 由?開始重復(fù)操作至?。
  26. PVDF薄膜蒸鍍完鋁層后,按順序關(guān)閉規(guī)管燈絲、高壓閥、機(jī)械泵、擴(kuò)散泵。把低壓閥拉出。鐘罩充氣,充氣完畢后升鐘罩。取出工件,做好鐘罩內(nèi)清理工作。
  a. 落下鐘罩。
  b. 開機(jī)械泵,抽3~5min,停機(jī)械泵。
  c. 切斷供電總開關(guān)。
  d. 1h后再關(guān)閉冷卻水。操作全部完成。
  27. 正常生產(chǎn)中,如遇到突然停電時,要立即切斷高真空測量,關(guān)閉規(guī)管燈絲,高壓閥、低壓閥拉出。來電后,先讓機(jī)械泵啟動工作3~5min后,再轉(zhuǎn)入正常生產(chǎn)。
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