真空鍍膜機真空蒸鍍是將待成膜的物質置于真空中進行蒸發或升華，使之在工件或基材表面析出的過程。（真空蒸鍍中的金屬鍍層通常為鋁膜，但其他金屬如鉻也可通過蒸發沉淀；厚度在30um左右。）
真空鍍膜機真空蒸鍍流程如下：
真空蒸鍍是在真空室中加熱蒸發容器中待形成薄膜的原材料使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸氣流入射到固體（稱為襯底或基片）表面凝結形成固態薄膜。關于蒸發源的形狀可根據蒸發材料的性質，結合考慮與蒸發材料的濕潤性，制作成不同的形式和選用不同的蒸發源物質。
真空蒸鍍有三層：底漆層（6~12um）+鍍膜層（1~2um）+面漆層（10um），將基材表面雜質、灰塵等用布擦拭干凈，提高噴射良率。將基材裝配在專用掛具上，用以固定于流水線上，并按設計要求實現外觀和功能的遮鍍。由于基材是塑膠件，在注塑時候會殘留空氣泡，有機氣體，塑膠表面不夠平整，直接蒸鍍吸附差且不光滑平整，涂一層底漆會提高鍍層的附著性且表面光滑平整效果好。將掛件裝配于真空容器內，加熱，實現蒸鍍。
