真空鍍膜機的陰極電弧技術是利用真空環境下的弧光放電，使固體陰極靶材蒸發、離化并通過等離子體的強化作用，飛向陽極基體表面沉積成膜的技術。正因為如此，陰極電弧技術具有極高的沉積速率。
在含有惰性氣體或反應氣體的真空環境下沉積在基體表面，具有高能量的離子束對于提高膜基結合力和打亂膜的柱狀晶結構是非常有利的，從而也可大幅度改善膜的組織結構和力學性能。目前，各薄膜設備制造商通過對成膜原理和工藝的研究采用各種不同的措施來減少“液滴”的產生。
其中BAI1200、RCS是采用圓形平面陰極源技術和輻射加熱技術,可進行快速鍍膜生產。利用該工藝制備的TiAlN 可增強加工工具切削刃的穩定性，并使干切削加工成為可能。
關鍵詞：真空鍍膜機
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